简历
理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司
更新时间：2025-05-23
存续
简介：理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司,2013年05月22日成立，经营范围包括从事半导体、光电设备及配件耗材的开发、设计、组装、销售；光伏设备及配件耗材的开发、设计、组装、销售；计算机软件系统的开发、设计、销售和系统集成；并提供相关的技术咨询、技术服务、技术转让；半导体、光电、光伏设备租赁及售后服务；货物或技术进出口（国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外）。
【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
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法定代表人
MING XI（奚明）
注册资本
5734.83万人民币
成立日期
2013-05-22
021-50276825
联系方式8
工商信息
法定代表人
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MING XI（奚明）
成立日期
2013-05-22
登记状态
存续（在营、开业、在册）
注册资本
5734.831000万人民币
实缴资本
5734.831000万人民币
企业类型
股份有限公司(外商投资、未上市)
参保人数
181人
所属地区
上海市
人员规模
企业选择不公示
统一社会信用代码
913100000693360474
工商注册号
310115002119526
组织机构代码
069336047
曾用名
理想晶延半导体设备（上海）有限公司
所属行业
科技推广和应用服务业
经营范围
从事半导体、光电设备及配件耗材的开发、设计、组装、销售；光伏设备及配件耗材的开发、设计、组装、销售；计算机软件系统的开发、设计、销售和系统集成；并提供相关的技术咨询、技术服务、技术转让；半导体、光电、光伏设备租赁及售后服务；货物或技术进出口（国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外）。
【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
企业地址
上海市松江区思贤路3255号3幢402室
营业期限
2013-05-22 至 无固定期限
核准日期
2025-01-02
登记机关
上海市市场监督管理局
股东信息 20
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主要人员 8
M
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职位
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董事兼总经理
何
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职位
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监事
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对外投资 2
法定代表人
MING XI
注册资本
4500万元人民币
投资数额
4500万人民币
投资比例
100%
成立日期
2022-10-10
经营状态
存续
法定代表人
郑晓彬
注册资本
1970万元人民币
投资数额
900.0万元
投资比例
45.6853%
成立日期
2023-10-16
经营状态
存续（在营、开业、在册）
开庭公告 19
买卖合同纠纷
案号： （2024）苏1202民初5709号
开庭日期： 2025-04-11
公诉人/原告： 泰州锦能新能源有限公司
被告人/被告： 理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司
买卖合同纠纷
案号： （2024）苏1202民初5709号
开庭日期： 2025-04-02
公诉人/原告： 泰州锦能新能源有限公司
被告人/被告： 理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司
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裁判文书 6
理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司与FASYSTEMSAUTOMATION(S)PTELTD买卖合同纠纷一审民事裁定书
案号： （2023）沪0117民初16158号
发布日期： 2023-08-31
案件身份：
原告:
{
"name": "理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司",
"digest": "1f6d54d02dede7c84b5bef8874c38474"
}
执行法院： 上海市松江区人民法院
理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司与FA SYSTEMS AUTOMATION (S) PTE LTD买卖合同纠纷一审民事裁定书
案号： （2023）沪0117民初16158号
发布日期： 2023-08-30
案件身份：
原告:
{
"name": "理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司",
"digest": "1f6d54d02dede7c84b5bef8874c38474"
}
执行法院： 中华人民共和国上海市松江区人民法院
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招投标 12
（东方电气长三角（杭州）创新研究院有限公司）原子层沉积设备—成交公告
发布日期： 2025-05-26
省份地区： 浙江
公告类型： 招标结果
中核光电—中试科研刚性产线ALD设备采购中标候选人公示
发布日期： 2025-04-03
省份地区： 上海
公告类型： 招标结果
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商标信息 58
图形
商标已注册
注册号：50144330
申请日期：2020-09-28
国际分类：35-广告销售
图形
商标已注册
注册号：50146248
申请日期：2020-09-28
国际分类：07-机械设备
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专利信息 97
一种水平石墨舟及用于水平石墨舟的缓存支撑装置
实用新型
法律状态：授权
申请日期：2024-03-21
公布日期：2025-03-21
申请公布号：CN222648111U
用于侧壁钝化镀膜设备的腔体上盖的顶升装置及镀膜设备
实用新型
法律状态：授权
申请日期：2024-04-18
公布日期：2025-03-21
申请公布号：CN222648106U
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